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高纯氟化钙晶体原料
高纯氟化钙晶体原料
CaF2≥99.9%;是新型电光源材料、光学仪器、光学透镜及整流罩等光学元器件单晶体的主要原料。用其制备的CaF2晶体材料是加工各种高精度光学元器件的优质材料。是其他材料无法取代的制造复消色差镜头的主要材料。因其良好的紫外、可见红外性能,广泛应用于紫外光刻等科研、高技术及民用领域。主要特性是机械强度好、抗潮性好、透过率高。
CaF2≥99.9%;是新型电光源材料、光学仪器、光学透镜及整流罩等光学元器件单晶体的主要原料。用其制备的CaF2晶体材料是加工各种高精度光学元器件的优质材料。是其他材料无法取代的制造复消色差镜头的主要材料。因其良好的紫外、可见红外性能,广泛应用于紫外光刻等科研、高技术及民用领域。主要特性是机械强度好、抗潮性好、透过率高。