二氧化硅光学镀膜材料

分子式：SIO₂    分子量：60.06
    密度2.32g/cm3，熔点1723±5℃，沸点2230℃。化学性质很稳定。不溶于水也不跟水反应。是酸性氧化物，不跟一般酸反应。氟化氢(氢氟酸)是唯一可使二氧化硅溶解的酸，生成易溶于水的氟硅酸产品用途：二氧化硅产品作为光学器件的增透膜广泛用于半导体晶体、激光元件、窗口和整流罩等，并用于制造石英玻璃、光学仪器、光纤。