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二氧化硅光学镀膜材料
分子式:SIO2 分子量:60.06
密度2.32g/cm3,熔点1723±5℃,沸点2230℃。化学性质很稳定。不溶于水也不跟水反应。是酸性氧化物,不跟一般酸反应。氟化氢(氢氟酸)是唯一可使二氧化硅溶解的酸,生成易溶于水的氟硅酸产品用途:二氧化硅产品作为光学器件的增透膜广泛用于半导体晶体、激光元件、窗口和整流罩等,并用于制造石英玻璃、光学仪器、光纤。


